真空烧结炉结构上要满足哪些要求呢 　　真空烧结炉是指使粉末压坯通过烧结获得所需的物理、力学性能以及微观结构的专用设备。烧结炉用于烘干硅片上的浆料、去除浆料中的有机成分、完成铝背场及栅线烧结。为了保证粉末压坯在烧结过程中的脱蜡(润滑剂或成形剂)、还原、合金化、组织转变等顺利进行，烧结时需要对烧结温度、保护气氛、压坯传送方式、加热和冷却速度等进行精确的控制。 　　因此，真空烧结炉在结构上应满足以下要求： 　　(1)具有完善的润滑剂烧除装置(俗称脱蜡带)。 　　(2)具有气密性，即能隔绝炉外空气并保证炉内保护气氛畅通。 　　(3)炉内的各段温度可控，烧结气氛可调。 　　(4)具有快速冷却装置，可将烧结零件快速冷却到出炉温度而不会氧化。 　　真空烧结炉使用的注意事项 　　(1)当使用氢气或分解氨时，要先通入氮气，在确保炉中的空气完全被排出时，才能通电升温，以防止打鸣和爆炸。 　　(2)对钼丝作加热元件的烧结炉，在通电前炉体中应通入保护气体，以防止钼丝氧化而脆断。 　　(3)真空烧结炉炉门及气体排出口应点明火烧除，以防止氧气进入或氢气排出而发生爆炸危险和煤气中毒危险。 　　(4)若电热元件为铁铬铝电阻丝，在升温至1100℃时应停留一段时间(30min左右)再升温，以防止电阻丝表面温度过高而损坏。 　　(5)在升温前和操作中应不时检查气流、水流是否符合要求，以及检查设备、电和炉温的控制仪表是否正常。 　　(6)停炉前应先断电，在炉温降到200℃以下时再停气和停水。 　　(7)除了因维修要停真空烧结炉炉外，要避免频繁停炉。烧结炉的频繁开停，会造成加热元件易于老化，耐火材料易于碎裂，炉内气氛不纯，炉温容易波动等弊端。

　　气相沉积炉设备特点是什么　　气相沉积炉适用于化学气相沉积法制备碳-碳复合材料，也可用于以碳氢气体（如C3H8等）为碳源的材料表面或基体等温CVD/CVI处理，或以三氯甲硅烷（MTS）为气源的材材料料表面抗氧化涂层、基体改性等。　　装料方式有上装料、底装料、卧式三种装料方式。该气相沉积炉设备特点如下：　　1.多通道沉积气路，流场均匀，无沉积死角，沉积效果好；　　2.采用先进的控制技术，能精密控制MTS的流量和压力，炉膛内沉积气流稳定，压力波动范围小；　　3.气相沉积炉设备自动化高，关键执行电气件采用进口；操作直观、简便，触摸屏经过开发，可动态显示炉子运行状况并具有自我诊断功能，程序段可直接输入。　　4.采用特殊结构沉积室，密封效果好，抗污染能力强。