真空烧结炉是如何起到提纯作用的　　真空烧结炉是指在真空环境中对被加热物体进行维护性烧结的炉。加热办法有许多，如电阻加热、感应加热、微波加热等。真空烧结炉是一种使用感应加热对被加热物体进行维护性烧结的炉。它可分为工频、中频、高频等类型，并可分为真空烧结炉的子类。　　在炉顶用一定量的气体烧结物体的一种办法。针对不同材料选择适宜的气氛烧结有利于烧结进程，进步产品的细密化程度，获得功用出色的产品。真空气氛炉通常运用各种气氛，如真空、氢气、氧气、氮气和慵懒气体（如氩气）。例如，透明氧化铝陶瓷可以在氢气氛中烧结，透明铁电陶瓷应该在氧气氛中烧结，氮化铝等氮化物陶瓷应该在氮气氛中烧结。有时，为了维护烧结合作，还需要在维护气氛中操作。例如，钼丝炉应与氢气联接，钨丝炉应在真空下作业。　　真空烧结炉的首要长处：　　1、真空有利于清扫吸附气体，对促进烧结后期的缩短效果显着。　　2、真空有利于硅，铝，镁，钙等杂质或其氧化物的清扫，起到提纯材料的效果。　　3、真空可改进液相烧结的潮湿性，有利于烧结进程中的缩短和改进合金的安排结构。　　4、真空是抱负的慵懒气氛，当不宜用其他还原性或慵懒气体时，或许对简单呈现脱碳，渗碳的材料，均可选用真空烧结炉。　　5、削减气氛中的有害成分(水，氧，氮等)对产品的玷污。

　　真空烧结炉的用途及分类 　　真空烧结炉主要用于粉末冶金制品、金属注射成型制品、不锈钢基、硬质合金、超合金、高比重合金、陶瓷材料、磁性材料、钕铁硼等的烧结。 　　真空炉的分类主要有两种： 　　一种是以温度分为普通烧结炉(1300℃及以下)，中温烧结炉(1300℃~1600℃)、高温烧结炉(1600℃~2400℃)。 　　另一种是以真空度的高低来划分，可分为低真空、高真空和超高真空烧结炉。 　　用途及特点： 　　真空烧结炉主要应用于特种陶瓷(碳化硅(SiSIC)、碳化硼、氮化硅以及氮化硅结合碳化硅等)、高熔点金属、硬质合金以及其它粉体材料的高温烧结，更适用于碳化硅(SiSIC)制品的重结晶烧成工艺，也可用于对一些高熔点金属进行退火及光亮、除气处理等。 　　真空甩带炉采用中频电源加热原理，有效避免了电阻内热真空炉的高温绝缘问题，因此在2000℃~2400℃的温度段相比电阻炉的有较大的优势。