行业动态

聚焦行业动态,洞悉行业发展

真空甩带炉的构造分解
发布时间:2023-08-01   浏览:2433次

  真空甩带炉的构造分解

  真空甩带炉是一种用于连续生产带式材料的高温处理设备,通常用于烧结、氧化、还原等工艺。下面是真空甩带炉的主要构造分解:

  1.炉体结构:

  真空甩带炉的炉体一般由炉腔、加热器、保温层和外壳组成。炉腔是放置带式材料的区域,通常由耐高温的金属材料构成。加热器负责提供炉腔的加热功率,可以采用电阻加热器、感应加热器等。保温层包裹在炉腔外部,起到隔热的作用。外壳则对整个设备进行密封和支撑。

真空甩带炉

  2.带式输送系统:

  真空甩带炉的带式输送系统负责将待处理的材料以带式形式运输到炉内。它一般由驱动装置、输送带和张紧装置组成。驱动装置通过驱动机构提供动力,使输送带按指定速度运行。输送带通常由耐高温、耐磨损的材料制成,以承载和传输材料。张紧装置用于保持输送带的适当张力。

  3.真空系统:

  真空甩带炉需要构建高真空环境,因此需要配备相应的真空系统。该系统一般包括真空泵、真空计、阀门等设备组成。真空泵负责将炉腔内的气体抽出,形成高真空环境。真空计用于监测和调节炉腔内的真空度。通过控制阀门,可以实现对炉腔内气体的流动和密封。

  4.控制系统:

  真空甩带炉通常配备自动控制系统,用于监测和控制各项参数。该系统一般包括温度控制系统、压力控制系统、输送速度控制系统等。这些系统通过传感器采集数据,并根据设定值进行反馈控制,以确保炉内温度、真空度和带式输送速度等参数在设定范围内稳定运行。

  以上是真空甩带炉的主要构造分解,不同厂家和型号的真空甩带炉可能会有一些差异,具体结构和配置还需参考下设备的设计和规格。


免责声明:本站部分图片和文字来源于网络收集整理,仅供学习交流,版权归原作者所有,并不代表我站观点。本站将不承担任何法律责任,如果有侵犯到您的权利,请及时联系我们删除。

相关推荐

16 February 2023
气相沉积炉日常使用方法有哪些呢

气相沉积炉日常使用方法有哪些呢

  气相沉积炉日常使用方法有哪些呢  气相沉积炉主要用于半导体元器件及电力整流装置的烧结工艺,可进行真空烧结、气体保护烧结及常规烧结,是半导体专用设备系列中新颖的技术装备,设计思路新颖,操作方便,结构紧凑,一台设备即可完成多个工艺流程。也可用于其他领域的真空热处理、真空钎焊等工艺,那么下面一起了解下炉子的使用必备技巧吧!  气相沉积炉在抽真空后氢气保护的情况下,利用中频感应加热原理,使位于盘管内的钨坩埚达到高温,通过热辐射传导到工作中,适用于科研、军工部门对钨、钼及其合金粉末进行成型烧结。安装炉子的场地应符合真空卫生要求,周围空气清洁干燥,通风条件好,工作场所不易扬起灰尘等。它的日常使用方法:  1、检查控制柜内所有零部件及部件是否完好、完好。  2、控制柜安装固定在相应的基础上。  3、查看接线图,参考电路图,连接外接主回路和控制回路,可靠接地,保证接线无误。  4、检查电器活动部位活动自如,无卡死现象。  5、绝缘电阻不应小于2万亿欧姆。  6、气相沉积炉各阀门必须在关闭位置。  7、控制电源开关置于断开位置。  8、手动调压旋钮逆时针转动头。  9、将报警按钮置于打开位置。  10、平面图完成设备循环冷却水连接时,建议用户在气相沉积炉总进出水管处再加一层备用水(可用自来水),防止循环水故障或断电引起密封圈燃烧。