碳化硅真空烧结炉10大使用注意事项　　碳化硅真空烧结炉在陶瓷、碳化硅、硬质合金材料、光电镀模材料和石墨纯化行业的真空烧结处理广泛应用，在工业领域发挥着重要作用，真空烧结炉的工作状态和工作效率想要保持在好的状态，日常的正常操作和维护保养是必要的。八佳电气建议碳化硅真空烧结炉使用时一定要注意以下10点：　　1、如网带为顶针网带，请用砂纸等打磨顶针端，以防止对电池片的划伤，假如是斜角网带，则在转速100情况下低速烘烤，以铲除有机物。　　2、如灯管感染有机物，请留神用酒精棉或无纺布擦洗。　　3、腔体内部清洁作业，需注意各气孔有无堵塞。　　4、有机排和热排的清洁作业，包含厂务和设备，以及设备的油烟盒，请用酒精清洁设备上的有机物等。　　5、炉体上的密封结构，真空体系等零部件拆装时，运用酒精或汽油清洗干净并通过单调后，涂上真空油脂再组装上。　　6、各传动件假如呈现限位不准、操控失灵、卡位等现象时，应该立即中止，不要强行进行操作，避免损坏机件。　　7、真空烧结炉停炉后，炉内必需坚持真空度。　　8、真空泵，阀门，丈量仪器，热工外表，电气元件等配套件，都必须依照产品的技能说明运用、修补以及保养。　　9、修补操作应在不通电的情况下进行。假如在带电情况下进行修补时，必须由专门的修补人员进行修补，一同确保人身及设备的必定安全。　　10、真空烧结炉铝板点焊机机械传动件应定期加油或换油保养。

　　气相沉积炉的特点是什么 　　气相沉积炉可用于以碳氢气体为碳源的复合材料的化学气相沉积。其中CVD沉积炉是指高温下的气相反应，例如，金属卤化物、有机金属、碳氢化合物等的热分解，氢还原或使它的混合气体在高温下发生化学反应以析出金属、氧化物、碳化物等无机材料的方法。这种技术开始是作为涂层的手段而开发的，但目前，不只应用于耐热物质的涂层，而且应用于高纯度金属的精制、粉末合成、半导体薄膜等，是一个颇具特征的技术领域。 　　设备特点在于：(1)在低温下合成高熔点物质;(2)析出物质的形态在单晶、多晶、晶须、粉末、薄膜等多种;(3)不仅可以在基片上进行涂层，而且可以在粉体表面涂层，特别是在低温下可以合成高熔点物质，在节能方面做出了贡献，作为一种新技术是大有前途的。 　　下面小编详细列举几条炉子的特点，以便大家能更好的了解炉子的性能。 　　气相沉积炉工作区尺寸可达2.5m×2m×4.5m，能满足超大型工件化学气相沉积处理需求；并且，采用多温区独立控温，温度均匀性好； 　　与此同时采用特殊结构沉积室，密封效果好，抗污染能力强； 　　气相沉积炉采用多通道沉积气路，流场均匀，无沉积死角，沉积效果好； 　　气相沉积炉对炭沉积过程中产生的焦油、固体粉尘、有机气体等能进行有效处理。